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拓荆创益申请可提高控压精度的蝶阀及其薄膜沉积设备专利，提高蝶阀的开度调节的准确性:蝶阀
金融界2025年5月21日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种可提高控压精度的蝶阀及其薄膜沉积设备”的专利，公开号CN120007792A，申请日期为20
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拓荆创益申请一种蝶阀及薄膜沉积设备专利，延长蝶阀使用时间:蝶阀
金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种蝶阀及薄膜沉积设备”的专利，公开号CN119755337A，申请日期为2024年12月蝶
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